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產品展示首頁 > 產品展示 > 二手半導體設備 > 刻蝕機 > 二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機

產品名稱:二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機

產品型號:

更新時間:2025-11-18

產品特點:二(er)手 Lam Research 2300_Flex45 刻(ke)蝕機是一款專為(wei)金屬刻(ke)蝕設計的等離子刻(ke)蝕設備(bei),支(zhi)持高(gao)深寬比結構加工,適用于3D NAND、邏輯器(qi)件等*制(zhi)程。

產品詳細資料:

    二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機 LAM 2300 Exelan Flex45 ICP蝕刻機,不僅具備高度精確的蝕刻能力,而且其強大的配置確保了其在多種材料上的蝕刻效果。無論是嵌段共聚物、石墨烯還是成型納米結構,它都能以性能進行精確的蝕刻,實現納米級別的圖案化轉移。

    該設備擁有(you)12條輸氣管線,可(ke)以適(shi)應各種氣體的需求,包括C4F8、CF4、O2、Ar、CO、CO2、O2、CHF3、HBr、N2、SF6、H2等,這為它(ta)在不同的蝕(shi)刻環境(jing)中提供了(le)靈活(huo)性和(he)適(shi)應性。同時(shi),單室自(zi)制(zhi)手動(dong)的特點使得操作更加便捷,大(da)大(da)提高了(le)工作效率。

二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機

雙頻射(she)頻控制

高(gao)低頻獨立(li)調節(如2MHz/60MHz),精(jing)準控制等離子體能量(liang)與密度,平衡各向(xiang)異性刻蝕與材(cai)料選擇性

自(zi)適(shi)應工藝控制(zhi)(APC)

集(ji)成實時傳感器與閉環反(fan)饋,動態調整氣(qi)體(ti)流量壓力[射頻功率(lv)


以下是二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機的核心參數清單(基于該系列(lie)設備的公開技術信息整理):

一、基礎參數

• 適(shi)用(yong)晶圓尺寸:300mm(12英寸)

• 設備(bei)類型:金屬/絕緣膜等離子(zi)體刻蝕機

• 生產年份(fen):2023

• 制造商:Lam Research(泛林集團)

二、工藝能力

• 刻蝕對(dui)象:金屬層(ceng)(如Cu、Al等)、絕緣膜(如SiO?、低k介(jie)質)

• 支持(chi)制(zhi)程(cheng):邏輯芯片(pian)/存儲芯片(pian)的28nm及以下(xia)*制(zhi)程(cheng)(Flex45系列主打(da)*節點(dian))

• 使用氣體:Cl?、BCl?等刻(ke)蝕氣體(與備注信息一致)

三、性能指標

• 刻蝕(shi)選(xuan)擇性(xing):對金屬/介質(zhi)層的選(xuan)擇性(xing)>50:1(保證刻蝕(shi)精度)

• 均勻性:晶圓內刻(ke)蝕均勻性<3%(3σ)

• 產能:約(yue)80~120片/小(xiao)時(取(qu)決于具體工藝步驟(zou))

四、設備配置

• 晶圓(yuan)傳輸:多腔室+自動化(hua)晶圓(yuan)處理系(xi)統

• 控制系統:Lam自研(yan)的(de)制程控制軟件(支(zhi)持實時工藝(yi)監控)

• 安全配置:氣(qi)體泄漏檢測、等(deng)離子體防護等(deng)半導體產線標準安全模塊

二手 Lam Research 2300_Flex45 刻蝕機


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